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uv光氧和等離子廢氣處理設(shè)備各采用什么原理?
來源:江蘇嘉爾泰環(huán)保設(shè)備有限公司         發(fā)布時(shí)間:2017-03-09


       對(duì)于光氧等離子廢氣處理設(shè)備主要是利用了等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)結(jié)合,對(duì)廢氣和臭氣進(jìn)行高效協(xié)同凈化處理:有機(jī)廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后,經(jīng)過UV紫外光束區(qū)時(shí),被紫外光波高能高效率地照射,瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng);經(jīng)過等離子體電場(chǎng)時(shí),在納秒級(jí)時(shí)間范圍內(nèi),產(chǎn)生裂變分解反應(yīng);如此協(xié)同高效地產(chǎn)生一系光解和分解反應(yīng),經(jīng)過多級(jí)凈化后從而達(dá)標(biāo)排放。
C波段光氧催化廢氣治理技術(shù),是一種利用新型的復(fù)合納米高科技功能材料的技術(shù),采用領(lǐng)先的三重祛異味原理。


1、一重凈化:采用UV雙波段照射廢氣分子,產(chǎn)生游離電子及電子空穴,生成極強(qiáng)的光氧還原功能,可氧化分解各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)化合物,廢氣分子吸收了紫外線的能量后,細(xì)菌分子的DNA(脫氧糖核酸)與核蛋白之間的斷裂,造成核酸與蛋白的交聯(lián)破壞,達(dá)到一重除臭凈化作用;
2、二重凈化:光氧催化在釋放大量C波段紫外線氧化分解惡臭廢氣分子同時(shí)并產(chǎn)生臭氧,臭氧極易分解,有很強(qiáng)的氧化性能破壞分解細(xì)菌的細(xì)胞壁,能很快地?cái)U(kuò)散透進(jìn)細(xì)胞內(nèi),氧化分解有毒有害的廢氣分子,直接破壞廢氣大分子聚合物。3.三重凈化:光觸媒納米粒子在特定波長(zhǎng)的光線照射下受激生成電子空穴對(duì),空穴分解催化劑表面吸附的水產(chǎn)生氫氧自由基,電子使其周圍的氧還原成活性離子氧,從而具備極強(qiáng)的氧化還原作用,將光催化劑表面的各種污染物摧毀,最后將其分解成無污染的水(H2O)和二氧化碳(CO2)。
       低溫等離子廢氣處理機(jī)理包含兩個(gè)方面:一是在高壓放電產(chǎn)生等離子體的過程中,高頻放電所產(chǎn)生的瞬間高能足夠打開一些有害氣體分子的化學(xué)能,使之分解為單質(zhì)原子或無害分子;二是等離子體由于是高壓放電產(chǎn)生,其中包含大量的高能電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)粒子和具有強(qiáng)氧化性的自由基,這些活性粒子和部分臭氣分子碰撞結(jié)合,在電場(chǎng)作用下,使臭氣分子處于激發(fā)態(tài)。當(dāng)臭氣分子 獲得的能量大于其分子鍵能的結(jié)合能時(shí),臭氣分子的化學(xué)鍵斷裂,直接分解成單質(zhì)原子或由單一原子構(gòu)成得無害氣體分子。同時(shí)產(chǎn)生的大量·OH、·HO2、·O 等活性自由基和氧化性極強(qiáng)的O3,與有害氣體分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),最終生成無害產(chǎn)物。

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